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Silizium-Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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Silizium-Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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- Siliziumsubstrat für thermisch anspruchsvolle Ultrakurzpulslaser-Aufbauten
- Ideal für Ti:Saphir- und Yb-basierte Ultrakurzpulslaser-Systeme
- Konzipiert für Ultrakurzpuls-Reflexion, bei der eine geringe Dispersion wesentlich ist
- GDD <30 fs² in den Ziel-Wellenlängenbereichen
Dichroitische Spiegel für Yb-dotierte Laser
- Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
- Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)
PeakPower Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD und hoher LDT
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- Hohe Laserzerstörschwelle für Femtosekundenlaser über 0,75 J/cm2 für 25 fs Pulsdauer bei 920 nm
- >99,5% Reflektivität mit Gruppenverzögerungsdispersion nahezu Null
- Ideal für modernste Anwendungen mit Femtosekundenlasern
Dielektrische Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit geringer GDD
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- GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
- Mehr als 99,9% Reflexion
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Ytterbium-dotierte Laser
Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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- Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
- Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
- GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
Zweibandige Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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- Hohe Reflexion & geringe GDD für die Umlenkung von Ultrakurzpulsstrahlen
- Ionenstrahlgesputterte Beschichtungen (IBS) minimieren Streuung und Absorptionsverlust
- GDD von nahezu Null für erste und zweite Harmonische von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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- Reflektivität von >99% zwischen 600 - 1000 nm oder 800 - 1150 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von bis zu 0 ±20 fs2
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Yb:dotierte Laser
- Standardmäßige englische Größen verfügbar
- TECHSPEC® Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) Mehrlagige EUV/XUV-Attosekunden-Spiegel
- Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
- Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
- Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
- EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
- Lagernd
- Keine Mindestbestellmenge und kein Mindestbestellwert
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
- Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
- Reflektivität von >99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
- Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
Neu
Ultrakurzpulsspiegel für Pikosekunden- und Femtosekunden-Laser mit hoher Leistung
Ultrakurzpulsspiegel für Pikosekunden- und Femtosekunden-Laser mit hoher Leistung
- Hohe laserinduzierte Zerstörschwelle bei Designwellenlänge
- Hohe Reflexion für S- und P-Polarisation
- Ideal für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen mit hoher Leistung
- Ebenfalls erhältlich sind TECHSPEC® hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
- Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
- Minimale Reflektivität von >99,8% über die 60 nm Bandbreite
- Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
- Gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm
- Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
- Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
- Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar
Off-Axis-Parabolspiegel mit Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung
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- Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung für Ti:Saphir-Laser und Yb-dotierte Laser
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion
- <50 Å RMS Oberflächenrauheit zur Minimierung von Streuung
Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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- Ideal zur Laserpulsfokussierung von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
- Reflektivität >99% zwischen 600 und 1000 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
- Effektive Brennweiten von 25 mm bis 500 mm
- TECHSPEC® Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 2 μm
- Reflektivität von >99,9% zwischen 2000 und 2200 nm
- GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
- Ideal für die <100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
- Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
UltraFast Innovations (UFI) UV-Ultrakurzpulsspiegel mit negativer Dispersion (255 - 277 nm)
- Negative GDD von -145 fs2
- Einfallswinkel von 5° zwischen 255 - 277 nm
- Ideal zur Pulskompression oder Dispersionskompensation von UV-Ultrakurzpulslasern
- Einzigartige UV-Ultrakurzpulsbeschichtung für negative Dispersion
UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit Dispersion dritter Ordnung
- Negative Dispersion dritter Ordnung (TOD) bis zu -2500 fs3 bei 7° Einfallswinkel
- Ideal zum TOD-Ausgleich ohne Einführung von zusätzlicher GDD
- Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von 0 fs2
- II-VI LightSmyth™ Transmissionsgitter sind ebenfalls verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion für 3200 nm
- Positive GDD von 500 fs2 bei 5° Einfallswinkel
- Minimale Reflexion >99,9% (p-Polarisation)
- Breitbandige Beschichtung für mittleres IR deckt 2800 - 3600 nm ab
- Ideal für modengekoppelte Laser im mittleren IR
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm mit reduziertem thermischem Linseneffekt
- Hochdispersive Ultrakurzpulsbeschichtung mit reduziertem thermischem Linseneffekt
- Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 5° Einfallswinkel
- Minimale Reflexion >99,5% (p-Polarisation) über 50 nm Bandbreite
- Ideal zur Erzeugung von ultrakurzen Laserpulsen mit hoher Leistung
UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion
- Positive GDD mit bis zu 100 fs2 bei 5° AOI
- Hohe Reflexion >99,5% für s- und p-Polarisation
- Breitbandige Leistung von 700 - 1100 nm
- Ultrakurzpuls-Prismen zur Dispersionskompensation sind ebenfalls verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) Verlustarme Laserspiegel für hohe Leistungen
- >99,99% Reflexion bei 1030 nm und 1064 nm
- Laserzerstörschwelle von 50 J/cm2 bei 1064 nm, 100 Hz, 8 ns
- Universelle Designs für Laserpulse im Nano-, Piko- und Femtosekundenbereich
- Kundenspezifische Versionen sind bis zu einem Durchmesser von 200 mm verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel
- Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
- Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
- Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte, komplementäre Ultrabreitband-Spiegelpaare
- Ideal für Verstärkersysteme für gechirpte Pulse und ultrabreitbandige Laseroszillatoren
- Ultrabreitbandiges Design für die Dispersionskompensation
- Negative GDD bis zu -60 fs2 und hohe Reflexion (>99%) bei 600 - 950 nm oder 650 - 1350 nm
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