- Ideal für Hellfeld- und Dunkelfeldmikroskopie
- Lange Arbeitsabstände und hohe numerische Aperturen
- Plan-apochromatisches Design
- Großer Arbeitsabstand, 6 mm für 100X
- Hochqualitatives plan-apochromatisches Design
- Gute Farbwiedergabe
- Ideal für Hellfeldabbildungen und laserbasierte Anwendungen durch LCD-Glas
- Gut geeignet für Nd:YAG-Laserlinien
- Deckglaskorrigiert für die Dicken 0,7 mm oder 1,1 mm
- Neue Objektive der Serie M Plan NIR HR und M Plan UV
- M Plan NIR HR bietet eine höhere Auflösung
- M Plan UV ist für 266 nm und 550 nm korrigiert
- Große Arbeitsabstände ermöglichen den Einbau in Bildverarbeitungssysteme
- Kompakte Größe mit ausgezeichneter Leistung
- Lange Arbeitsabstände
- Einfach integrierbar mit C-Mount-Kameras
- Unendlich korrigierte Plan-Apochromate
- Korrigiert für 3,5 mm dicke Deckgläser
- Extralange Arbeitsabstände
- Bildgebung für Vakuumzellen, optische Fallen und kalte Atome
- Große Arbeitsabstände ermöglichen den Einbau in bildgebende Messgeräte
- Kompaktes Design und große Parfokallänge vereinfachen Einsatz
- Tubus erhältlich für Verwendung mit C-Mount-Kameras
- Gehäuse aus Aluminiumlegierung
- Für unendlich korrigierte Objektive mit M26 x 36 TPI oder M40 x 36 TPI
- Maximale Sensorgröße bis zu 2/3“ oder APS-C
- Vertikaler oder horizontaler Aufbau sowie Hellfeld- und Dunkelfeldkonfiguration verfügbar
- In-Line-Beleuchtungsanschluss kompatibel mit 8 mm oder 1/4‘‘ (0,312‘‘) Durchmesser
- Für unendlich korrigierte Objektive von Mitutoyo
- Trinokularer Aufbau ermöglicht einfache Videoadaption
- Objektivrevolver nimmt 4 Objektive auf
- Designed for use with Mitutoyo NIR, NUV, and UV Infinity Corrected Objectives
- Maximum Sensor Size up to 2/3”
- Ideal for Laser Processing and Machining applications
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