Oberflächenebenheit nach Beschichtung (PV), SF2 (Wellen): --
Abweichung Oberflächenebenheit in Prozent: --
Bitte beachten Sie: Es wird von einer einseitigen Beschichtung ausgegangen.
R | Krümmungsradius (µm) |
D | Substratdurchmesser (µm) |
Es | Elastizitätsmodul Substrat (Pa) |
Ec | Elastizitätsmodul Beschichtung (Pa) |
ts | Substratdicke (µm) |
tc | Beschichtungsdicke (µm) |
vs | Poissonzahl Substrat (ohne Einheit) |
vc | Poissonzahl Beschichtung (ohne Einheit) |
σ | Spannung der Beschichtung (MPa) |
SF1 | Oberflächenebenheit vor Beschichtung (Wellen oder µm) |
SF2 | Oberflächenebenheit nach Beschichtung (Wellen oder µm) |
Dieser Rechner basiert auf den folgenden Annahmen:
Viele moderne optische Beschichtungstechnologien wie Magnetronsputtern oder Ionenstrahlsputtern beinhalten die hochenergetische Aufbringung von Material. Über die Techniken können Beschichtungen mit vielen Vorteilen hergestellt werden, sie erzeugen aber auch eine signifikante Spannung auf Beschichtung und Substrat. Diese Spannung kann zu Problemen mit der Oberflächenebenheit führen und die transmittierte oder reflektierte Wellenfront der Optik beeinflussen.
Dieser Rechner ermittelt eine Näherung des Einflusses der durch die Beschichtung hervorgerufenen Spannung auf die Oberflächenebenheit der beschichteten Optik.
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