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Dichroitischer Filter für EUV/IR, 10-25 nm, 50,8 mm Durchmesser

Extreme Ultraviolet (EUV) Dichroic Filters

Extreme Ultraviolet (EUV) Dichroic Filters

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Durchmesser (mm):
50.80
Einfallswinkel (°):
78
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Beschichtung:
Dielectric Multilayer AR
Reflexion (%):
>35
Oberflächenqualität:
20-10
Dicke (mm):
5.08 ±0.1
Typ:
Dichroic Filter
Parallelität (Bogenminuten):
<5
Toleranz Größe (mm):
+0.0/-0.2
Wellenlängenbereich (nm):
10 - 25
Oberflächengenauigkeit, RMS:
<λ/10 @ 633nm

Konformität mit Standards

RoHS:
Konformitätszertifikat:

Beschreibung Produktfamilie

  • Trennen bei der Erzeugung hoher Harmonischer EUV von der NIR-Laserquelle
  • Besitzen hohe Zerstörschwelle
  • Für Anwendungen zwischen 10 und 40 nm
  • Lagernd und verfügbar
  • Keine minimale Bestellmenge, keine zusätzlichen Kosten für Beschichtungschargen

Die dichroitischen Filter für extremes Ultraviolett (EUV), auch als Strahlseparatoren bezeichnet, wurden für Anwendungen zur Erzeugung hoher Harmonischer entwickelt und bieten eine gute Trenneffizienz zwischen EUV- und NIR-Wellenlängen. Die Filter bestehen aus Quarzglassubstraten und halten höherer Laserleistung stand als die Strahlseparatoren mit Brewster-Winkel und EUV-Filter. Die dichroitischen EUV-Filter haben eine große Bandbreite von 10 nm bis 40 nm. Zusätzlich zur Erzeugung hoher Harmonischer können die Filter auch in EUV-Anwendungen wie EUV-Lithographie oder EUV-Nanotechnologie, der kohärenten diffraktiven Bildgebung sowie für die Erzeugung von ultrakurzen Attosekunden-Pulsen eingesetzt werden.

 
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