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Sphärischer EUV-Spiegel, 13,5 nm, 25,4 mm Durchmesser, 5 ° AOI

TECHSPEC® Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors

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Designwellenlänge DWL (nm):
13.5
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Oberflächenrauheit (Angström):
<3 RMS
Durchmesser (mm):
25.40 +0.00/-0.13
Effektive Brennweite EFL (mm):
250.00
Krümmungsradius (mm):
500.00
Beschichtung:
Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon
Beschichtungsspezifikation:
Rabs >60% @ 13.5nm
Art der Beschichtung:
Metal/Semiconductor
Radius R1 (mm):
500.00
Dicke (mm):
6.35 ±0.25
Typ:
Spherical Mirror
Halbwertsbreite FWHM (nm):
0.50

Konformität mit Standards

RoHS:
Konformitätszertifikat:

Beschreibung Produktfamilie

  • Mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung auf hochglanzpolierten Substraten
  • Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
  • Entwickelt für EUV-Strahlfokussierungsanwendungen
  • Schmaler Durchlassbereich für HHG-Anwendungen

TECHSPEC® Sphärische Spiegel für extremes Ultraviolett (EUV) verfügen über eine mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung, die bei 13,5 nm eine Reflexion von mehr als 60% bietet. Sie sind für einen Einfallswinkel von 5° ausgelegt und dienen zur Fokussierung von unpolarisierten EUV-Laserquellen. Eine Oberflächenrauheit von weniger als 3 Å effektiv sorgt für minimale Streuung. Dies ist für EUV-Wellenlängen von Bedeutung, da die Streuung dort größer ist, als bei längeren Wellenlängen. TECHSPEC Sphärische EUV-Spiegel haben einen sehr schmalen Reflexionsbereich von ca. 0,5 nm, sodass nur die interessante 13,5-nm-Harmonische in HHG-Anwendungen (High Harmonic Generation) reflektiert wird. Typische Anwendungen für sphärische EUV-Spiegel sind Bildgebung mittels kohärenter Beugung (Coherent Diffractive Imaging, CDI), EUV-Bildverarbeitung und EUV-Nanomaterialbearbeitung.

Hinweis: Zum Lieferumfang gehören Testdaten für den Probespiegel der jeweiligen Fertigungsläufe.

 
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