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Dichroitischer Spiegel für Yb-dotierte Laser, geringe GDD, 940/1030 nm, 25 mm Durchmesser

Yb-Doped Dichroic Mirrors

Yb-Doped Dichroic Mirrors

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Spezifikationen

Produktdetails

Typ:
High Power Dichroic Window

Physikalische und mechanische Eigenschaften

Durchmesser (mm):
25.00 +0.0/-0.10
Freie Apertur CA (mm):
22.50
Dicke (mm):
3.00 ±0.20
Kanten:
Fine Ground

Optische Eigenschaften

Designwellenlänge DWL (nm):
940nm/1030nm
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Einfallswinkel (°):
0 - 5
Beschichtung:
S1: HR 1030nm ± 5nm, AR 940 ± 5nm
S2: AR 940nm & 1030nm ± 5nm
Beschichtungsspezifikation:
S1: Rp & Rs >99.5% @ 1030nm;
Tp & Ts >98% @ 940nm @ 0 – 5° AOI
S2: Tp & Ts >98% @ 940nm & 1030nm
Brechungsindex (nd):
1.458
Oberflächenebenheit (P-V):
λ/10
Oberflächenqualität:
10-5
Keilwinkel:
30' ±10'
Zerstörschwelle, Referenz: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification.
> 20 J/cm2 @ 10ns pulses @5 kHz PRF
1MW/cm2 CW

Konformität mit Standards

RoHS:
Konform
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Konformitätszertifikat:
Anzeigen
×

Produktdetails

  • Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
  • Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)

Dichroitische Spiegel für Yb-dotierte Laser erreichen eine hohe Reflexion von 99,5% bei 1030 nm und eine Transmission von 98% bei 940 nm bei einem großen Akzeptanzwinkel von 0-5°. Die keilförmigen Substrate minimieren Rückreflexionen sogar bei 0° Einfallswinkel, sodass die Spiegel unerwünschtes Feedback in Lasersystemen auslöschen. Die Spiegel sind mit einem Durchmesser von 12,5 mm, 25 mm oder 50 mm und 3 mm Dicke erhältlich. Die Spiegel sind ideal für präzise Materialbearbeitungen geeignet und wurden für Anwendungen mit hoher Leistung und Nanosekundenpulsen entwickelt. Dichroitische Spiegel für Yb-dotierte Laser bieten außerdem eine geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von <±100 fs2 zwischen 1030 nm und 1080 nm, was sie ideal für ultrakurze Pulse und nichtlineare Anwendungen wie die Multiphotonenmikroskopie macht.

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