- Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
- Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)
- Hohe Laserzerstörschwelle für Femtosekundenlaser über 0,75 J/cm2 für 25 fs Pulsdauer bei 920 nm
- >99,5% Reflektivität mit Gruppenverzögerungsdispersion nahezu Null
- Ideal für modernste Anwendungen mit Femtosekundenlasern
- >99,8% absolute Reflexion bei 920 nm
- 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 905-935 nm
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
- >99,8% Reflexion bei 1310 nm
- 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 1295-1325 nm
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
- >99,8% Reflexion bei 2 µm
- 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 1900-2200 nm
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
- >99,8% Reflexion bei Ti:Saphir-Grundfrequenz und -Harmonischen
- Oberflächenqualität 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in Laseranwendungen
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Substrate aus ZERODUR® haben nahezu keine thermische Ausdehnung
- >99,2% Reflexion bei Nd:YAG-Harmonischen
- Hohe Laserzerstörschwellen
- Substrate aus ZERODUR® haben nahezu keine thermische Ausdehnung
- >99,8% Reflexion bei Yb:YAG-Harmonischen
- Hohe Laserzerstörschwellen
- Design mit Schaft reduziert Spannung auf Spiegeloberfläche bei Halterung über Schaft
- >99% Reflexion bei Laserwellenlänge
- Oberflächenqualität 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in empfindlichen Laseranwendungen
- TECHSPEC® Spiegel mit Schaft mit Metallbeschichtung oder dielektrischer Beschichtung sind ebenfalls verfügbar
- Auskoppler, Laserlinienspiegel und Nd:YAG-Stäbe
- Auskoppler mit 80% oder 90% Reflexion bei 1064 nm
- Dotierte Nd:YAG-Stäbe mit 0,6% Nd
- Große Auswahl an passenden Laseroptiken für Nd:YAG-Laser
- Für Nd:YAG-Harmonische
- >97% Reflexion bei 266, 355, 532 und 1064 nm
- Hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis
- Nd:YAG-Laserlinienspiegel und kostengünstige Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Negative Dispersion dritter Ordnung (TOD) bis zu -2500 fs3 bei 7° Einfallswinkel
- Ideal zum TOD-Ausgleich ohne Einführung von zusätzlicher GDD
- Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von 0 fs2
- II-VI LightSmyth™ Transmissionsgitter sind ebenfalls verfügbar
- Positive GDD von 500 fs2 bei 5° Einfallswinkel
- Minimale Reflexion >99,9% (p-Polarisation)
- Breitbandige Beschichtung für mittleres IR deckt 2800 - 3600 nm ab
- Ideal für modengekoppelte Laser im mittleren IR
- Hochdispersive Ultrakurzpulsbeschichtung mit reduziertem thermischem Linseneffekt
- Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 5° Einfallswinkel
- Minimale Reflexion >99,5% (p-Polarisation) über 50 nm Bandbreite
- Ideal zur Erzeugung von ultrakurzen Laserpulsen mit hoher Leistung
- Negative GDD von -145 fs2
- Einfallswinkel von 5° zwischen 255 - 277 nm
- Ideal zur Pulskompression oder Dispersionskompensation von UV-Ultrakurzpulslasern
- Einzigartige UV-Ultrakurzpulsbeschichtung für negative Dispersion
- Positive GDD mit bis zu 100 fs2 bei 5° AOI
- Hohe Reflexion >99,5% für s- und p-Polarisation
- Breitbandige Leistung von 700 - 1100 nm
- Ultrakurzpuls-Prismen zur Dispersionskompensation sind ebenfalls verfügbar
- >99,99% Reflexion bei 1030 nm und 1064 nm
- Laserzerstörschwelle von 50 J/cm2 bei 1064 nm, 100 Hz, 8 ns
- Universelle Designs für Laserpulse im Nano-, Piko- und Femtosekundenbereich
- Kundenspezifische Versionen sind bis zu einem Durchmesser von 200 mm verfügbar
- Versionen für Nd:YAG-Laser mit 532 oder 1064 nm
- 80% Reflexion bei Nd:YAG-Designwellenlänge
- UV-Quarzglassubstrat
- Hohe laserinduzierte Zerstörschwelle bei Designwellenlänge
- Hohe Reflexion für S- und P-Polarisation
- Ideal für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen mit hoher Leistung
- Ebenfalls erhältlich sind TECHSPEC® hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
- Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
- Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
- Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
- Bis zu 99,98% Reflexion
- Zertifizierte hohe Laserzerstörschwellen bei der Designwellenlänge bis 15 J/cm2 @ 1064 nm
- Superpolierte Substrate mit Streuung im ppm-Bereich erhältlich
- Zusätzliche Größen in Kürze verfügbar
- >99,8% Reflexion bei Yb:YAG-Laserlinien
- Garantierte hohe Laserzerstörschwellen
- Oberflächenqualität von 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in Laseranwendungen
- TECHSPEC® Laserspiegelsubstrate und TECHSPEC® Nd:YAG-Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Bis zu 99,9% Reflexion bei Nd:YAG-Harmonischen
- Hohe laserinduzierte Zerstörschwelle
- Oberflächenqualität von 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in empfindlichen Laseranwendungen
- TECHSPEC® Laserspiegelsubstrate und TECHSPEC® Yb:YAG-Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
- Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
- GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
- Hohe Reflexion & geringe GDD für die Umlenkung von Ultrakurzpulsstrahlen
- Ionenstrahlgesputterte Beschichtungen (IBS) minimieren Streuung und Absorptionsverlust
- GDD von nahezu Null für erste und zweite Harmonische von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
- Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
- Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
- Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar
- Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
- Reflektivität von >99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
- Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
- Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
- Minimale Reflektivität von >99,8% über die 60 nm Bandbreite
- Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
- Gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung
- >97% Reflexion bei Designwellenlänge
- Bis zu λ/10 Oberflächengenauigkeit
- Hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis
- Versionen für Nd:YAG-, Yb:YAG- und Dioden-Laser
- Entwickelt für übliche Faserlaser
- >99,2% Reflexion zwischen 1030 nm und 1090 nm
- Hohe Zerstörschwellen
- Hohe Zerstörschwelle von bis zu 1,5 J/cm2
- Dielektrische Beschichtung mit geringem Verlust
- Für Laser mit Wellenlängen von 193 nm und 248 nm
- >99,5% Reflexion bei Designwellenlänge
- Winkeltoleranz von ±15 Bogensekunden
- Substrate mit hoher thermischer Stabilität
- >Reflexion von 99,8% bei der Designwellenlänge
- Sehr gut für breitbandige Anwendungen geeignet
- Entwickelt für übliche Diodenlaser
- Laserzerstörschwelle >10 J/cm² @ 2 µm, 10 ns, 10 Hz
- Ausgelegt für Holmium- und Thulium-Laserquellen
- Oberflächengenauigkeit λ/7
- Reflektivität von >99,9% zwischen 2000 und 2200 nm
- GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
- Ideal für die <100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
- Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
- Ideal für die Fokussierung von Laserlicht
- >99,8% Reflexion bei Zentralwellenlänge
- Quarzglassubstrate mit hoher Wärmebeständigkeit
- >99% Reflexion bei der Designwellenlänge
- Oberflächenqualität 10-5 für empfindliche Laseranwendungen
- Wellenlängenbänder 532/1064 nm, 635-670/1064 nm oder 800/1030 nm
- TECHSPEC® Nd:YAG-Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- >99,8% Reflexion über breite Wellenlängenbereiche im sichtbaren und nahinfraroten Spektrum
- Oberflächenqualität 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in empfindlichen Laseranwendungen
- Oberflächenebenheit λ/10
- GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
- Mehr als 99,9% Reflexion
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Ytterbium-dotierte Laser
- Reflektivität von >99% zwischen 600 - 1000 nm oder 800 - 1150 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von bis zu 0 ±20 fs2
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Yb:dotierte Laser
- Standardmäßige englische Größen verfügbar
- TECHSPEC® Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
- Behält bei 45° Einfallswinkel zirkulare Polarisation bei
- Bis zu 99,9% Reflexion bei 532 oder 1064 nm und 80% bei 650 nm für einfache Ausrichtung
- Versionen mit 12,7 mm, 25,4 mm und 50,8 mm Durchmesser verfügbar
- >99,5% Reflexion bei der Designwellenlänge
- Geringer Wärmeausdehnungskoeffizient
- Wellenlängenbänder 532/1064 nm oder 635/670/1064 nm
- >99,5% Reflexion bei 755 nm und >90% Reflexion bei 625-650 nm
- Oberflächenqualität 10-5 und Oberflächenebenheit λ/10
- Ideal für den Einsatz in dermatologischen Anwendungen
- Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
- Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
- Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich
- Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
- Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
- Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
- EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
- Lagernd
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