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LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium von Coherent^®

Mehr Produkte von Coherent®

Gerillte Oberflächen im Nanobereich
Verschiedene Rillenperioden und Rillentiefen
Ideal für nanophotonische Forschungsanwendungen

LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium von Coherent^® besteht aus nanostrukturierten Oberflächen auf einkristallinen Siliziumsubstraten. Durch reaktives Ionenätzen entstehen auf der Substratoberfläche lineare Rillen mit trapezförmigem Querschnitt, die konventionellen Gittern ähneln. Der Ätzprozess ermöglicht verschiedene Perioden- und Tiefenspezifikationen für die Rillen sowie komplexere Muster wie z. B. Gitter. LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium von Coherent ist ideal für nanophotonische Forschungsanwendungen in den Bereichen Optik und Photonik, Biologie, Chemie, Nanoimprinten und Mikrofluidik.

Hinweis: II-VI Incorporated ist ab sofort Coherent Corp.

Spezifikationen

Größe (mm):

12.50 x 12.50

Freie Apertur CA (mm):

11.50 x 11.50

Aufbau:

RIE Grating

Länge (mm):

12.50

Dicke (mm):

0.68 ±0.05

Breite (mm):

12.50

Beschichtung:

Uncoated

Substrat:

Single Crystal Silicon

Oberflächenqualität:

60-40 (within CA)

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Produkte

Periode (nm)	Größe (mm)	Artikelnummer	Preis	Kaufen

855 855	12.50 x 12.50 12.50 x 12.50	#16-855	625,00 €625,00 Angebotsanfrage	3-4 Tage ×
139 139	12.50 x 12.50 12.50 x 12.50	#16-857	760,00 €760,00 Angebotsanfrage	Kontakt ×

Technische Informationen

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

Zubehör

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Unser Service beinhaltet:

Kundenspezifische Abmessungen, Materialien und mehr
Hochpräzise Oberflächenqualität und -ebenheit
Enge Toleranzen und komplexe Formen
Skalierbare Produktion – vom Prototypen zur Serie

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LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium von Coherent®

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Spezifikationen

Produkte

Technische Informationen

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

SEM Image of 855nm, 200nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)

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