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AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive

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AdlOptica aplanoXX Aplan Objectives

AdlOptica aplanoXX Aplan Objectives

AdlOptica aplanoXX Aplan Objectives
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  • Aplanatisches optisches Design
  • Hohe numerische Apertur für kleine Punktgrößen
  • Versionen für 800 und 1030 nm mit Fokustiefen bis 4 mm
  • AdlOptica foXXus Multi-Fokus-Objektive sind ebenfalls verfügbar

AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive kompensieren sphärische Aberration und Koma, wenn sie in bis zu 4 mm Tiefe in Glas, Saphir, Siliziumkarbid, Silizium, PMMA oder anderen transparenten Materialien fokussiert werden. Die Objektive wurden für Ultrakurzpuls-Festkörperlaser oder -Faserlaser entwickelt und sind für 800 nm (Ti:Saphir) und 1030 nm (Yb:dotiert) optimiert. C-Mount-Gewinde und ein optisches System, das unempfindlich bezüglich Fehlausrichtung ist, vereinfachen die Integration dieser Objektive in Lasersysteme. AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive sind ideal für die Mikrobearbeitung von Glas, die 3D-Nanofabrikation, Hohlleiter-Recording und das selektive Laserätzen. Ein Ring am Objektiv ermöglicht die manuelle Einstellung des Fokus und ein austauschbares Frontfenster schützt vor Verschmutzungen während der Materialbearbeitung.

Spezifikationen

Bildfeld (°):
±0.3
Durchmesser (mm):
44.00
Freie Apertur CA (mm):
20
Länge (mm):
54.10
Arbeitsabstand (mm):
2.5 (1.6 with Protective Window)
Brennweite BW (mm):
12.50
Numerische Apertur NA:
0.80
Zerstörschwelle, laut Design:
100 mJ @ 5ns
300 μJ @ 1ps
Fokustiefe (mm):
0 - 4
Strahldurchmesser (mm):
20 (maximum)
Laserzerstörschwelle, gepulst:
100 mJ @ 5ns
300 μJ @ 1ps
Mount:
C-Mount

Produkte

DWL (nm)  Wellenlängenbereich (nm)  NA CA (mm) Durchm. (mm)  Länge (mm)   Vergleichen   Artikelnummer   Preis  Kaufen
800 770 - 900 0.80 20 44.00 54.10
1030 1020 - 1100 0.80 20 44.00 54.10

Technische Informationen

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