- Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
- Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)
- Hohe Laserzerstörschwelle für Femtosekundenlaser über 0,75 J/cm2 für 25 fs Pulsdauer bei 920 nm
- >99,5% Reflektivität mit Gruppenverzögerungsdispersion nahezu Null
- Ideal für modernste Anwendungen mit Femtosekundenlasern
- GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
- Mehr als 99,9% Reflexion
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Ytterbium-dotierte Laser
- Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
- Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
- GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
- Hohe Reflexion & geringe GDD für die Umlenkung von Ultrakurzpulsstrahlen
- Ionenstrahlgesputterte Beschichtungen (IBS) minimieren Streuung und Absorptionsverlust
- GDD von nahezu Null für erste und zweite Harmonische von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
- Reflektivität von >99% zwischen 600 - 1000 nm oder 800 - 1150 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von bis zu 0 ±20 fs2
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Yb:dotierte Laser
- Standardmäßige englische Größen verfügbar
- TECHSPEC® Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
- Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
- Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
- Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
- EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
- Lagernd
- Keine Mindestbestellmenge und kein Mindestbestellwert
- Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
- Reflektivität von >99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
- Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
- Hohe laserinduzierte Zerstörschwelle bei Designwellenlänge
- Hohe Reflexion für S- und P-Polarisation
- Ideal für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen mit hoher Leistung
- Ebenfalls erhältlich sind TECHSPEC® hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
- Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
- Minimale Reflektivität von >99,8% über die 60 nm Bandbreite
- Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
- Gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung
- Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
- Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
- Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar
- Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung für Ti:Saphir-Laser und Yb-dotierte Laser
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion
- <50 Å RMS Oberflächenrauheit zur Minimierung von Streuung
- Ideal zur Laserpulsfokussierung von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
- Reflektivität >99% zwischen 600 und 1000 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
- Effektive Brennweiten von 25 mm bis 500 mm
- TECHSPEC® Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
- Reflektivität von >99,9% zwischen 2000 und 2200 nm
- GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
- Ideal für die <100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
- Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
- Negative GDD von -145 fs2
- Einfallswinkel von 5° zwischen 255 - 277 nm
- Ideal zur Pulskompression oder Dispersionskompensation von UV-Ultrakurzpulslasern
- Einzigartige UV-Ultrakurzpulsbeschichtung für negative Dispersion
- Negative Dispersion dritter Ordnung (TOD) bis zu -2500 fs3 bei 7° Einfallswinkel
- Ideal zum TOD-Ausgleich ohne Einführung von zusätzlicher GDD
- Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von 0 fs2
- II-VI LightSmyth™ Transmissionsgitter sind ebenfalls verfügbar
- Positive GDD von 500 fs2 bei 5° Einfallswinkel
- Minimale Reflexion >99,9% (p-Polarisation)
- Breitbandige Beschichtung für mittleres IR deckt 2800 - 3600 nm ab
- Ideal für modengekoppelte Laser im mittleren IR
- Hochdispersive Ultrakurzpulsbeschichtung mit reduziertem thermischem Linseneffekt
- Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 5° Einfallswinkel
- Minimale Reflexion >99,5% (p-Polarisation) über 50 nm Bandbreite
- Ideal zur Erzeugung von ultrakurzen Laserpulsen mit hoher Leistung
- Positive GDD mit bis zu 100 fs2 bei 5° AOI
- Hohe Reflexion >99,5% für s- und p-Polarisation
- Breitbandige Leistung von 700 - 1100 nm
- Ultrakurzpuls-Prismen zur Dispersionskompensation sind ebenfalls verfügbar
- >99,99% Reflexion bei 1030 nm und 1064 nm
- Laserzerstörschwelle von 50 J/cm2 bei 1064 nm, 100 Hz, 8 ns
- Universelle Designs für Laserpulse im Nano-, Piko- und Femtosekundenbereich
- Kundenspezifische Versionen sind bis zu einem Durchmesser von 200 mm verfügbar
- Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
- Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
- Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
- Ideal für Verstärkersysteme für gechirpte Pulse und ultrabreitbandige Laseroszillatoren
- Ultrabreitbandiges Design für die Dispersionskompensation
- Negative GDD bis zu -60 fs2 und hohe Reflexion (>99%) bei 600 - 950 nm oder 650 - 1350 nm
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