- Neue Objektive der Serie M Plan NIR HR und M Plan UV
- M Plan NIR HR bietet eine höhere Auflösung
- M Plan UV ist für 266 nm und 550 nm korrigiert
- Großer Arbeitsabstand, 6 mm für 100X
- Hochqualitatives plan-apochromatisches Design
- Gute Farbwiedergabe
- Branchenführender Arbeitsabstand von 19 bis 31 mm
- Entwickelt und gefertigt von EO für Fokussierung und Bildgebung
- Aktiv ausgerichtete Spiegel für optimale Leistung
- Extrem breitbandiges Spektrum von 190 nm bis 11 µm ohne chromatische Abbildungsfehler
- TECHSPEC® Hochqualitative ReflX™ Objektive ebenfalls verfügbar
- Beugungsbegrenzte Leistung: Transmittierte Wellenfront λ/14 RMS
- Konisches Design bietet mehr Freiraum bei 45° Einfallswinkel
- Geschwungene Arme reduzieren Beugungseffekte
- TECHSPEC® ReflX™ Objektive ebenfalls verfügbar
- Fokussieren Laserlicht auf 1, 2 oder 4 Fokuspunkte entlang der optischen Achse
- Verfügbar mit den numerischen Aperturen 0,38 oder 0,80
- Aplanatisches Design für Laser mit 515/1030 nm und 1064 nm
- AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive sind ebenfalls verfügbar
- Aplanatisches optisches Design
- Hohe numerische Apertur für kleine Punktgrößen
- Versionen für 800 und 1030 nm mit Fokustiefen bis 4 mm
- AdlOptica foXXus Multi-Fokus-Objektive sind ebenfalls verfügbar
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