- Hohe Laserzerstörschwelle für Femtosekundenlaser über 0,75 J/cm2 für 25 fs Pulsdauer bei 920 nm
- >99,5% Reflektivität mit Gruppenverzögerungsdispersion nahezu Null
- Ideal für modernste Anwendungen mit Femtosekundenlasern
- Substrate aus ZERODUR® haben nahezu keine thermische Ausdehnung
- Bessere Reflexion und LIDT als bei Metallbeschichtungen
- Reflektierende Beschichtungen für UV, VIS und NIR für Einfallswinkel von 0-45°
- Spiegel aus ZERODUR® mit Metallbeschichtung ebenfalls verfügbar
- Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
- Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
- Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
- EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
- Lagernd
- Keine Mindestbestellmenge und kein Mindestbestellwert
- Design mit Schaft reduziert Spannung auf Spiegeloberfläche bei Halterung über Schaft
- >99% Reflexion bei Laserwellenlänge
- Oberflächenqualität 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in empfindlichen Laseranwendungen
- TECHSPEC® Spiegel mit Schaft mit Metallbeschichtung oder dielektrischer Beschichtung sind ebenfalls verfügbar
- Für Nd:YAG-Harmonische
- >97% Reflexion bei 266, 355, 532 und 1064 nm
- Hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis
- Nd:YAG-Laserlinienspiegel und kostengünstige Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Versionen für Nd:YAG-Laser mit 532 oder 1064 nm
- 80% Reflexion bei Nd:YAG-Designwellenlänge
- UV-Quarzglassubstrat
- Reflektivität von >99% zwischen 600 - 1000 nm oder 800 - 1150 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von bis zu 0 ±20 fs2
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Yb:dotierte Laser
- Standardmäßige englische Größen verfügbar
- TECHSPEC® Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
- >99,8% Reflexion bei Yb:YAG-Laserlinien
- Garantierte hohe Laserzerstörschwellen
- Oberflächenqualität von 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in Laseranwendungen
- TECHSPEC® Laserspiegelsubstrate und TECHSPEC® Nd:YAG-Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Bis zu 99,9% Reflexion bei Nd:YAG-Harmonischen
- Hohe laserinduzierte Zerstörschwelle
- Oberflächenqualität von 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in empfindlichen Laseranwendungen
- TECHSPEC® Laserspiegelsubstrate und TECHSPEC® Yb:YAG-Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
- Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
- Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar
- >99,5% Reflexion bei Designwellenlänge
- Winkeltoleranz von ±15 Bogensekunden
- Substrate mit hoher thermischer Stabilität
- Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
- Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
- Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
- Konzipiert zur Trennung zweier dicht nebeneinander propagierender Strahlen
- Beschichtung der 45° angeschrägten Apertur bis zur scharfen Kante
- Beschichtungsoptionen: Enhanced Aluminium, Protected Gold und Protected Silber
- Über 98 % Reflexion zwischen 2 μm und 20 μm
- Kupfersubstratspiegel
- Hohe Zerstörschwellen
- Hohe Zerstörschwelle von bis zu 1,5 J/cm2
- Dielektrische Beschichtung mit geringem Verlust
- Für Laser mit Wellenlängen von 193 nm und 248 nm
- >Reflexion von 99,8% bei der Designwellenlänge
- Sehr gut für breitbandige Anwendungen geeignet
- Entwickelt für übliche Diodenlaser
- Ideal für durchstimmbare Laser oder zur Reflexion verschiedener Laserquellen
- Hohe Reflexion von 0 bis 45° für alle Polarisationsrichtungen
- Verschiedene Beschichtungsmöglichkeiten verfügbar
- Oberflächenebenheit λ/10 und Oberflächenqualität 10-5
- Hochwertige Quarzglassubstrate
- Zollgrößen mit runden oder rechteckigen Geometrien
- Unbeschichtete Laserfenstersubstrate sind ebenfalls verfügbar
- Reflexion von Laserdiodenlicht im sichtbaren Spektrum von über 95%
- Ideal für Systeme mit mehrfacher Reflexion
- Beschichtung optimiert für 45° AOI bei 633nm
- Oberflächenqualität bis 10-5 und Oberflächenebenheit bis λ/10
- Quarzglas oder N-BK7
- Standard-Zollgrößen sorgen für gute Kompatibilität
- Beschichtete Versionen für Laserlinien verfügbar
- Laserspiegelsubstrate sind ebenfalls verfügbar
- Superpoliert auf beiden Oberflächen mit ≤1 Å RMS Oberflächenrauheit
- Oberflächen mit geringer Streuung ideal für Laseranwendungen im UV oder mit hoher Leistung
- UV-Quarzglassubstrat mit polierten Fasen und Kanten
- Fertigung im Haus ermöglicht kundenspezifische Größen und Formen von 6 bis 76,2 mm und Oberflächenrauheiten <0,5 Å
- Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
- Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
- Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich
- 120 nm und 190 nm Designwellenlängen
- >85 % durchschnittliche Reflektivität über den spezifizierten Wellenlängenbereich
- Veredelte metallische Beschichtungen für breitbandige Reflektivität im sichtbaren Bereich
- >97% Reflexion bei Designwellenlänge
- Bis zu λ/10 Oberflächengenauigkeit
- Hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis
- Versionen für Nd:YAG-, Yb:YAG- und Dioden-Laser
- >99% Reflexion bei der Designwellenlänge
- Oberflächenqualität 10-5 für empfindliche Laseranwendungen
- Wellenlängenbänder 532/1064 nm, 635-670/1064 nm oder 800/1030 nm
- TECHSPEC® Nd:YAG-Laserlinienspiegel sind ebenfalls verfügbar
- Behält bei 45° Einfallswinkel zirkulare Polarisation bei
- Bis zu 99,9% Reflexion bei 532 oder 1064 nm und 80% bei 650 nm für einfache Ausrichtung
- Versionen mit 12,7 mm, 25,4 mm und 50,8 mm Durchmesser verfügbar
- Ideal für Verstärkersysteme für gechirpte Pulse und ultrabreitbandige Laseroszillatoren
- Ultrabreitbandiges Design für die Dispersionskompensation
- Negative GDD bis zu -60 fs2 und hohe Reflexion (>99%) bei 600 - 950 nm oder 650 - 1350 nm
- Negative GDD von -145 fs2
- Einfallswinkel von 5° zwischen 255 - 277 nm
- Ideal zur Pulskompression oder Dispersionskompensation von UV-Ultrakurzpulslasern
- Einzigartige UV-Ultrakurzpulsbeschichtung für negative Dispersion
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