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LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium (linear) von Coherent®, 139 nm, 50 nm Rillentiefe, 25 mm quadratisch

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Periode (nm):
139 ±6.95
Rillentiefe (nm):
50 ±7.5
Linienbreite (nm):
70 ±7
Größe (mm):
25.00 x 25.00
Freie Apertur CA (mm):
24.00 x 24.00
Beschichtung:
Uncoated
Aufbau:
RIE Grating
Länge (mm):
25.00
Modellnummer:
1304119
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Single Crystal Silicon
Oberflächenqualität:
60-40 (within CA)
Dicke (mm):
0.68 ±0.05
Typ:
Nanopatterned Silicon Stamp
Breite (mm):
25.00

Konformität mit Standards

RoHS:
Konformitätszertifikat:

Beschreibung Produktfamilie

  • Gerillte Oberflächen im Nanobereich
  • Verschiedene Rillenperioden und Rillentiefen
  • Ideal für nanophotonische Forschungsanwendungen

LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium von Coherent® besteht aus nanostrukturierten Oberflächen auf einkristallinen Siliziumsubstraten. Durch reaktives Ionenätzen entstehen auf der Substratoberfläche lineare Rillen mit trapezförmigem Querschnitt, die konventionellen Gittern ähneln. Der Ätzprozess ermöglicht verschiedene Perioden- und Tiefenspezifikationen für die Rillen sowie komplexere Muster wie z. B. Gitter. LightSmyth™ Nanostrukturiertes Silizium von Coherent ist ideal für nanophotonische Forschungsanwendungen in den Bereichen Optik und Photonik, Biologie, Chemie, Nanoimprinten und Mikrofluidik.

Hinweis: II-VI Incorporated ist ab sofort Coherent Corp.

SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)
SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Cross Section)
SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)
SEM Image of 139nm, 50nm Groove Depth Linear Silicon Nanostamps (Top Down)
 
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